국립한밭대 노진성 교수, ‘반도체 정밀 검사 핵심 기술’ 민간 기업에 기술 이전
- 작성자 산학연구처 연구진흥실
- 작성일 2026-10-14
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- ‘단촬상 타원분광법을 이용한 반도체 검사 장치’ 등록특허, ㈜뮤텍코리아에 기술이전
- 고속·고정밀 반도체 광학 검사 기술의 사업화 및 국산 검사 장비 경쟁력 강화 기대
□ 노진성 교수 마이크로사이트: https://lab.hanbat.ac.kr/mnmlab
□ 국립한밭대학교(총장 오용준) 기계공학과 노진성 교수가 개발한 차세대 반도체 광학 검사 기술이 국내 반도체 검사 장비 전문기업인 ㈜뮤텍코리아에 이전되며 산학협력을 통한 연구 성과의 기술사업화 기반이 마련됐다.
○ 국립한밭대 산학협력단은 지난 9월 ㈜뮤텍코리아와 ‘단촬상 타원분광법을 이용한 반도체 검사 장치’(등록특허 제10-2515593호)에 대한 기술이전 계약을 체결한 후, 최근 등록특허 양도 방식으로 기술이전을 완료했으며, 기술이전 금액은 총 1억 5천만 원이라고 밝혔다.
□ 이번에 이전된 기술은 반도체 제조공정의 박막 두께 및 광학적 특성을 분석하는 타원분광법을 기반으로, 단일 촬상 방식을 적용한 정밀 광학 검사 기술이다.
○ 기존 타원분광 계측 방식과 비교해 측정 시간 단축 및 시스템 구성 간소화에 기여할 수 있는 기술로, 반도체 제조공정에서 요구되는 고속·고정밀 광학 계측 장비에 활용될 것으로 기대된다.
○ 특히 이번 기술이전은 대학에서 개발한 반도체 정밀 광학 계측 기술을 국내 장비기업의 제품 개발 및 사업화와 연계했다는 점에서 의미가 있다.
○ 기술을 이전받은 ㈜뮤텍코리아는 반도체 검사 및 광학 장비 관련 기술을 개발하는 기업으로, 이번 기술이전을 통해 차세대 반도체 광학 검사 장비의 사업화 기반을 강화할 수 있을 것으로 기대된다.
□ 기계공학과 노진성 교수는 “이번 기술이전은 대학의 연구 성과가 실제 산업 현장의 반도체 검사 장비 개발로 이어지는 의미 있는 성과”라며, “앞으로도 국내 기업과의 산학협력을 강화해 반도체 검사․계측 기술의 국산화와 산업 경쟁력 향상에 기여하겠다”고 전했다.
□ 한편, 노진성 교수 연구팀은 반도체 제조 및 첨단 패키징 분야의 정밀 계측, 비파괴 검사, 인공지능 기반 결함 분석 기술을 연구하고 있으며, 산업 현장에 적용할 수 있는 검사·계측 기술 개발에 주력하고 있다.
□ The next-generation semiconductor optical inspection technology developed by Professor Jinseong Noh of the Department of Mechanical Engineering at Hanbat National University (President Oh Yong-jun) has been transferred to Mutech Korea Co., Ltd., a leading domestic semiconductor inspection equipment company, laying the foundation for the commercialization of research outcomes through industry-academia collaboration.
○ The Korea Hanbat National University Industry-Academic Cooperation Foundation announced that after signing a technology transfer agreement with Mutech Korea Co., Ltd. last September for the 'semiconductor inspection device using single-shot ellipsometry' (Registered Patent No. 10-2515593), the technology transfer was recently completed through the assignment of the registered patent, with a total amount of 150 million KRW.
□ The newly transferred technology is a precision optical inspection method based on ellipsometry, which analyzes the thin film thickness and optical properties in semiconductor manufacturing processes, applying a single-shot approach.
○ This technology contributes to reduced measurement time and simplified system configuration compared to existing ellipsometry measurement methods, and is expected to be applied to high-speed, high-precision optical measurement equipment required in semiconductor manufacturing processes.
○ This technology transfer is particularly significant as it links the university’s developed semiconductor precision optical measurement technology with the product development and commercialization of a domestic equipment company.
○ Mutech Korea Co., Ltd., which acquired the technology, is a company developing semiconductor inspection and optical equipment technologies, and this technology transfer is expected to strengthen its foundation for commercializing next-generation semiconductor optical inspection equipment.
□ Professor Jinseong Noh of the Department of Mechanical Engineering said, "This technology transfer is a meaningful achievement that translates university research outcomes into the development of semiconductor inspection equipment for the industrial field," adding, "We will continue to strengthen industry-academia collaboration with domestic companies to contribute to the localization of semiconductor inspection and measurement technologies and enhance industrial competitiveness."
□ Meanwhile, Professor Noh’s research team is studying precision measurement, non-destructive testing, and AI-based defect analysis technologies in semiconductor manufacturing and advanced packaging, focusing on developing inspection and measurement technologies applicable to industrial sites.