주요 메뉴 바로가기 보조 메뉴 바로가기 본문 바로가기
RESEARCH COMMUNICATION PORTAL

학술대회 해외 일본 공동(제1) Highly Stable High Mobility Top-gate Structured Oxide TFT by Supplying Optimized Oxygen and Hydrogen to Semiconductors

  • 학술대회 구분 해외 > 일본
  • 학술대회명 The 26th International Display Workshops (IDW' 19)
  • 개최기관명 The Institute of Image Information and Television Engineers (ITE), The Society for Information Display (SID)
  • 학술대회 발표논문집명 Proceedings of the International Display Workshops
  • 발표일자 2019-11
  • 저자명 Jong Beom Ko, Seung-Hee Lee, Sang-Hee Ko Park
  • 저자구분 공동(제1)
  • 전체저자수 3
  • 연구분야 공학 > 재료공학
  • 원문 링크 https://doi.org/10.36463/idw.2019.0485