논문 해외 국제전문학술지(SCI급) Optimized hydrogen-supplying gate insulator for high-mobility indium oxide TFTs via atomic-level oxygen reactant engineering
- 학술지 구분 국제전문학술지(SCI급)
- 게재년월 2025-03
- 저자명 Hwa Young Kim , Seong-In Cho, Dong Yeob Shin, Kwun-Bum Chung, Sang-Hee Ko Park, Jong Beom Ko
- 학술지명 Journal of Alloys and Compounds
- 발행국가 해외
- 논문언어 외국어
- 원문 링크 https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2025.179353
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