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특허 국내 특허 화학공정 표면 구조가 제어된 전지용 금속 전극 및 이의 제조 방법

표면 구조가 제어된 전지용 금속 전극 및 이의 제조 방법
  • 지적재산권 구분 국내
  • 취득 구분 등록
  • 출원 및 등록인명 유명현, 이용민, 이후길, 김규만, 공석현, 한태영
  • 취득 국가 구분 국내
  • 출원(등록)일자 2018-06-08
  • 출원/등록 국가 국내
  • 발명인명 유명현, 이용민
  • 기술 분류 화학공정
  • 연구분야 공학 > 화학공학