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특허 국내 특허 화학공정 도파민계 중합체가 코팅된 입자, 이를 포함하는 입자층, 이를 포함하는 전극 및 이들의 제조 방법

• 지적재산권 구분 국내
• 취득 구분 등록
• 출원 및 등록인명 유명현, 이용민, 송다노, 진다희, 황수연
• 취득 국가 구분 국내
• 출원(등록)일자 2018-07-04
• 출원/등록 국가 국내
• 발명인명 유명현, 이용민
• 기술 분류 화학공정
• 연구분야 공학 > 화학공학

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